어플라이드 머티어리얼즈, 새로운 전자빔 계측 시스템 ‘베리티SEM 10’ 발표
베리티SEM 10 시스템… High-NA EUV 리소그래피 위한 길 열어 업계 최고 분해능과 이미징 속도로 반도체 제조사의 공정 개발 속도 향상 및 수율 극대화 지원 어플라이드 머티어리얼즈가 새로운 전자빔 계측 시스템 ‘베리티SEM 10’을 발표했다. 베리티SEM 10(VeritySEM 10)은 EUV(극자외선) 및 새롭게 부상하는 High-NA EUV 리소그래피 공정으로 패터닝된 반도체 디바이스 소자의 패턴 거리측정(CD)을 정밀하게 측정하도록 설계됐다. 반도체 제조사들은 리소그래피 스캐너가 마스크에서 포토레지스트로 패턴을 형성하면 CD-SEM(패턴 거리측정 주사전자현미경)을 사용해 이를 서브 나노미터 단위로 측정할 수 있다. 이 같은 계측은 리소그래피 공정 성능을 해당 스텝에서 지속적으로 보정함으로써..
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2023. 4. 24. 16:37